FISCHERSCOPE® X-RAY XDV-µ® WAFER
即使测量时间很短也能保证最高精度
最小 光斑尺寸 10 µm (FWHM)
用于小型结构的可靠测量
¹ 性能最多可提高 50%:与 DPP 相比,DPP 大幅提高了标准偏差,从而提高了测量能力,或大幅缩短了测量时间。
² Fischer 制造的高端毛细管光学元件 - 世界上唯一一家自己生产多毛细管的 X 射线荧光测量仪器制造商。有三种不同的高端多毛细管可供选择--为您的每项应用提供合适的解决方案:10 µm 无光晕、20 µm 无光晕或 20 µm 有光晕。
满足精确晶圆控制的所有要求。
FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-µ WAFER 配备了带真空晶片夹头和 Ultra 微聚焦射线管的可编程测量台,能够以最佳方式满足半导体行业的需求。内置在 XRF 设备中的多毛细管光学可将 X 射线辐射集中在 10 或 20 µm 的最小测量点上,从而实现短时间、高强度的测量。因此,与传统设备相比,您可以更精确地分析单个微观结构,而且完全自动化。
完全集成的解决方案。
XDV®-μ SEMI 与您选择的晶片处理机相结合
准确、精确。
通过自动图像识别,在小型结构上定位测量点
应对所有挑战。
可靠、快速的测量结果
完全自动化。
只需轻轻一点,仪器就能为您服务
市场上最先进的多毛细管光学。
我们自主生产的多毛细管光学可在较短的测量时间内提供出色的测量结果
DPP+ 数字脉冲处理器。
更短的测量时间或更高的标准偏差*。
*与 DPP 相比
特点
配备钨靶的 Ultra 微聚焦射线管,可在 µ-XRF 的最小光斑上实现更高的性能;可选配钼靶
DPP+ 即使测量时间短也能达到最高精度
4 种可切换滤波器
内部制造的多毛细管光学可实现特别小的高强度测量点
测量点直径约 10 或 20 µm (FWHM)
样品高度可达 5 毫米
硅漂移探测器,面积为 20 或 50 mm²,可在薄层上实现最高精度
带支架的真空吸附台,适用于 150 - 300 毫米的所有标准晶圆规格
使用 WinFTM® 实现自动化的广泛选项
应用实例
- 测量直径达 12 英寸晶片上的最小结构
- 分析非常薄的涂层,例如小至 < 10 纳米的金/钯层
- 自动测量,如质量控制
- 确定复杂的多层系统
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