X射线荧光分析法是一种快速、准确测量镀层厚度的方法
X射线荧光分析（XRF）是一种快速、无损，能够高精度测量各种材料镀层厚度和镀层成分的方法。 XRF分析的一个主要优点是可以同时测量单个和多个镀层的厚度和成分。此外，仪器操作简单，测量通常只需几秒钟。
XRF是一种原子光谱学。X射线荧光分析法的基础是，当一个样品材料中的原子被初级X射线激发时，它们产生荧光辐射（图2）。这些荧光辐射的波长或能量是样品材料里组成元素的特征。在这些特定能量下发射的光子数表示材料中被激发元素的原子数（质量）。此外，镀层厚度可由镀层材料的信号强度或基底材料辐射的衰减来确定。
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