Jump to the content of the page
Chrome Plating Measurement

COULOSCOPE CMS2 和 COULOSCOPE CMS2 STEP

COULOSCOPE CMS2 和 COULOSCOPE CMS2 STEP

特性

  • 高精度测量多层金属镀层的厚度(库仑法)
  • 根据DIN EN ISO 2177进行测量
  • 通过彩色显示屏和图形支持的用户指南直观地操作
  • 可轻松选择电解速度(0.1-50微米/分钟)和电解面积(0.6-3.2mm)
  • 针对不同镀层系统(如铁上镀锌或黄铜上镀镍)预先设定了近100种测量应用
  • 测量单元上电压曲线的图形显示
  • 图形和统计评估
  • 带支撑架的部分自动化测量,适用于各种样品尺寸
  • 全面的配件组合,以适应特定的要求

COULOSCOPE CMS2 STEP的附加功能

  • 同时测量镀层厚度和电位差
  • 根据ASTM B764 - 04和DIN EN 16866进行电位差测试
  • 银参比电极测量前的准备工作(产生必要的AgCl层)
  • 电解电流可调整
  • 可直接在测厚仪显示器上评估电位曲线

应用

  • 电镀生产过程中的监控和成品的进厂检验
  • 可以精确测量多种金属镀层的厚度0.05–50µm(根据材料不同)
  • 金属和非金属基材上单层和多层镀层厚度的测量
  • 多镀层体系:例如在铁或塑料基体(ABS)上镀铬/镍/铜等多层镀层
  • 双镀层体系:例如银或铜上面镀锡或镀镍
  • 单镀层如铁上镀锌

COULOSCOPE CMS2 STEP的额外应用

  • STEP测试:在铜、铁、铝或塑料衬底(ABS)上的多层镍层系统

用于质量控制的库仑法镀层厚度测量

在一定的厚度以上,X射线荧光对镀层的无损测量达到了极限,这就是COULOSCOPE®CMS2发挥作用的地方。它用库仑法测量多种金属镀层的厚度,这是做相当简单的退镀处理。COULOSCOPE CMS2可以准确地测量许多常见的单层和多层镀层。

库仑法的成本效益高,可精确地替代X射线荧光法-前提是你可以接受一种破坏性的测量方法。它为您提供了最大的灵活性,因为它可以用于广泛的镀层组合。您可以使用库仑法测量镀层厚度,特别是在电镀镀层的质量控制中,以及用于监测印刷电路板上的残余纯锡厚度。

STEP测试:库仑法测量镀层厚度和多层镍的电化学电位测量

如果你想在使用库仑法测量镀层厚度的同时测量电化学电势,那么COULOSCOPE CMS2 STEP就是你的选择。STEP测试方法可以同时测量多层镍镀层的电位差和镀层厚度,非常适合测定这些镀层的腐蚀行为。

Jump to the top of the page